반도체 제조업체의 첨단 장비 지출 회복세 타고 긍정적 전망 내놔 인공지능(AI) 기반 반도체에 대한 수요 증가 전망이 나오는 가운데 ASML의 주가가 유럽증시에서 시가총액 3위 자리에 올랐다고 블룸버그통신이 22일(현지시간) 보도했다. 이날 유럽증시에서 ASML 주가는 전 거래일 종가보다 3% 올라 2년 만에 최고치를 기록하며 시가총액에서 식품업체 네슬레를 제쳤다. ASML의 시총은 3060억 달러(409조 원)로, 네슬레의 시총은 3010억 달러로 평가됐다. 이로써 ASML은 덴마크의 제약사 노보 노디스크와 루이비통모에헤네시(LVHM)에 이어 유럽 증시 시총 3위 자리에 올랐다. 블룸버그는 ASML의 주가 상승이 반도체 제조업체들의 첨단 장비에 대한 지출이 회복돼 이 회사가 내년에 "큰 성장을 보일 것"이라고 전망함에 따라 이뤄졌다고 분석했다. 앞서 ASML의 고객사이자 세계 최대 파운드리 반도체 제조업체인 대만의 TSMC는 올해 매출이 작년에 비해 20% 이상 늘어날 것이라는 전망치를 발표했다. 투자회사 번스타인의 애널리스트 사라 루소와 크리스 엘리아스는 ASML 주가가 동종업체보다 "매력적"이라며 투자 등급을 상향 조정했다고 밝혔다. 투자은행 모건스탠리
자이스 코리아가 오는 31일부터 2월 2일까지 서울 코엑스에서 열리는 '세미콘 코리아 2024'에 참가한다고 밝혔다. 자이스 코리아는 이번 행사에서 기술 심포지엄 및 부스 참가를 통해 자이스 광학 기술력부터 반도체 주요 공정에 활용되는 다양한 장비와 솔루션을 선보일 예정이다. 글로벌 반도체 산업 전시회인 세미콘 코리아는 매년 반도체 산업의 성장과 최신 반도체 제조 기술 등을 확인할 수 있는 자리다. 올해 행사는 'Innovation Beyond Boundaries'라는 주제로 전시 뿐 아니라 글로벌 반도체 전문가가 연사로 참여하는 기술 심포지엄 등 다양한 부대행사도 개최된다. 자이스 그룹에서는 본사 기술 로드맵 시니어 디렉터인 하이코 펠트만 박사가 연사로 참석해 'EUV optics at ZEISS'를 주제로 자이스의 광학 기술력이 어떻게 EUV의 생산성 및 해상도 향상에 기여하는지 소개한다. 해당 발표에서는 0.33 NA(Numerical Aperture: 개구수)의 1세대 EUV 광학 시스템과 처음으로 ASML에 전달된 아나모픽 배율을 활용해 0.55 NA를 실현한 광학 모듈에 대한 내용을 공유할 예정이다. 자이스 그룹은 설립자인 칼 자이스의 현미경부터
ASML이 최첨단 반도체 양산에 필요한 하이NA 극자외선(EUV) 노광장비 첫 제품을 인텔에 공급했다. 삼성전자와 TSMC 등 세계 주요 반도체 업체들이 ASML의 첨단 장비를 공급받기 위해 기다리는 상황이다. 블룸버그통신은 22일(현지시간) ASML이 최신 반도체 제조 장비의 첫 주요 부품을 미국 오리건주에 있는 인텔의 D1X 공장으로 배송했다고 익명의 소식통을 인용해 보도했다. 인텔과 ASML 측은 이 장비가 최종 어디로 향하는지 밝히지 않았다. 팻 겔싱어 인텔 최고경영자(CEO)는 자사가 이 첨단 장비를 가장 먼저 도입할 것이라고 밝히며 반도체 제조 분야에서 선두로 복귀하겠다는 의지를 드러낸 바 있다. ASML은 반도체 제조업체들이 자사 장비에 계속 의존하도록 하기 위해 계속 신기술을 출시하고 있다. 인텔은 오는 2025년에 이 새 장비를 활용해 반도체를 생산할 계획이다. D 1X 공장은 인텔의 미래 생산 기술을 개발하는 시설이다. ASML은 EUV 노광장비 분야 세계 최고 제조업체다. 삼성전자와 TSMC, 인텔 등이 최첨단 반도체를 만들기 위해서는 ASML의 장비를 써야 한다. ASML은 21일 소셜 미디어 X에 올린 게시물에서 "인텔에 첫 번째 하이
펠리클의 EUV 투과도, EUV 공정에서 초미세 반도체 수율에 지대한 영향 끼쳐 산업통상자원부 국가기술표준원은 15일 중소기업인 '이솔(E-SOL)'이 개발한 반도체 장비 기술이 국제표준으로 제안됐다고 밝혔다. 이솔은 반도체 극자외선(EUV) 공정에 쓰이는 마스크 계측·검사 장비, 마스크 보호 박막(펠리클)의 투과도 검사 장비 등을 제작·판매하는 기업이다. 이솔은 마스크를 보호하는 박막인 펠리클 투과도 검사 장비를 개발하고, 이 장비를 활용한 펠리클의 EUV 투과도 검사 방법을 신규국제 표준안으로 제안했다. 초미세 반도체를 만드는 EUV 공정은 EUV 광원이 미세회로가 그려진 마스크를 통해 웨이퍼에 회로를 새기는 방식이다. 펠리클은 마스크 위에 씌워 미세먼지 등 오염 물질로부터 마스크를 보호하는 박막이다. EUV 공정에서 펠리클의 EUV 투과도는 초미세 반도체 수율에 큰 영향을 미친다. 헬로티 서재창 기자 |
경계현 사장 "삼성이 하이 NA EUV를 잘 쓰는 협력관계가 중요" 이재용 삼성전자 회장이 15일 윤석열 대통령의 네덜란드 국빈 방문 동행을 마치고 15일 오전 서울 김포공항 비즈니스센터를 통해 귀국했다. 회색 목도리를 두르고 나온 이 회장은 이번 순방 성과에 대한 취재진의 질문에 "반도체가 거의 90%였다"며 미소를 지었다. 밝은 표정의 이 회장은 함께 귀국한 경계현 디바이스솔루션(DS)부문장(사장)을 격려하듯 경 사장의 등을 여러 번 두드리기도 했다. 삼성전자와 ASML은 지난 12일(현지시간) 네덜란드 ASML 본사에서 진행된 한-네덜란드 반도체 협력 협약식에서 업무협약(MOU)을 맺고 7억 유로(약 1조 원)를 투자해 차세대 노광장비 개발을 위한 극자외선(EUV) 공동 연구소 설립을 추진하기로 했다. ASML은 최첨단 반도체 양산에 필요한 EUV 노광장비를 세계에서 유일하게 생산하는 기업으로, 반도체 업계에서는 '슈퍼 을'로 불린다. 경 사장은 "이제 삼성이 '하이 뉴메리컬어퍼처(NA) EUV'에 대한 기술적인 우선권을 갖게 됐다"며 "장기적으로 D램이나 로직에서 하이 NA EUV를 잘 쓸 수 있는 계기를 만들지 않았나 생각한다"고 말했다. ASML이
DUV 노광장비 중국 수출 승인 요구조건에 대한 새 규정 발표할 예정 미국과 네덜란드가 중국에 대한 추가적인 반도체 장비 수출 제한 조치를 발표할 것이라고 로이터 통신이 29일(현지시간) 보도했다. 로이터는 네덜란드 정부가 30일 자국의 반도체 노광장비 제조업체인 ASML이 생산하는 심자외선(DUV) 노광장비 중국 수출 승인 요구조건에 대한 새로운 규정을 발표할 예정이라고 전했다. 네덜란드 정부가 새로운 규제를 즉각 시행하지 않고 9월쯤부터 적용할 가능성이 있다고 덧붙였다. 네덜란드 정부는 2019년부터 ASML의 최첨단 극자외선(EUV) 노광장비의 중국 수출을 금지했으며 지난 3월에는 그동안 수출을 허용했던 DUV 노광장비에 대한 수출 규제도 예고한 바 있다. 당시 ASML은 네덜란드 정부 규제로 DUV 노광장비 중 신형 제품이 영향을 받을 것으로 예상했다. 그러나 ASML의 DUV 노광장비 가운데 구형 제품도 미국의 수출 통제 강화로 중국 수출길이 막힐 것으로 보인다고 로이터는 전했다. 지난해 10월 중국에 대한 첨단 반도체와 장비 수출 통제를 발표한 미국 정부가 6개 중국 시설에 대한 반도체 장비 수출 시 사전 승인을 받도록 하는 새로운 규정을 준비하고
CS 엔지니어 위한 심화 교육과 역량 강화 목적으로 설립돼 ASML의 한국 지사인 ASML 코리아가 지난 16일 경기도 용인시에 위치한 서플러스글로벌 반도체 장비 클러스터에 EUV 라이브 모듈을 갖춘 글로벌 트레이닝 센터를 개소했다. CS 엔지니어 대상으로 한 EUV 장비 심화 트레이닝 과정인 Fab ready2 등 기술 교육 프로그램을 제공한다 이번 개소식에는 ASML 코리아의 이우경 대표와 리차드 래머스(Richard Lammers) 한국∙일본 고객지원 필드운영 총괄, 랄프 한젠(Ralph Hanzen) 글로벌 트레이닝 센터 시니어 프로젝트 매니저, 김남윤 글로벌 트레이닝 센터 코리아 매니저 등 주요 임원진을 비롯해 서플러스글로벌의 김정웅 대표 및 업계 관계자들이 참석했다. ASML 글로벌 트레이닝 센터 중 하나인 이번 신규 트레이닝 센터는 EUV 장비 교육에 특화된 곳이며, ASML의 EUV 장비 설치, 업그레이드 및 유지보수를 담당하는 ‘CS 엔지니어’를 위한 심화 교육과 역량 강화 목적으로 설립됐다. 해당 센터는 약 1445㎡ 규모에 클린룸, 클래스룸, 오피스 및 기타 편의 시설을 갖추고 있다. ASML 코리아의 김남윤 글로벌 트레이닝 센터 매니저는
어플라이드 머티어리얼즈가 추가적인 비용, 복잡성, 에너지, 재료 소비 없이 반도체 제조사가 설계를 축소할 수 있도록한 패터닝 기술을 2일 공개했다. 이 기술을 통해 반도체 제조사는 고성능 트랜지스터 제작 및 배선층 제작 과정에서 EUV 노광 스텝을 줄임으로써 첨단 반도체 제조에 소요되는 비용 및 복잡성을 낮추고 환경에 미치는 영향을 줄일 수 있다. 고객들은 EUV의 분해능 한계보다 작은 반도체 소자를 프린팅할 때 칩 면적 최적화를 위해 EUV 더블 패터닝 사용을 확대하고 있다. 반도체 제조사는 고밀도 패턴을 절반으로 분할하여 프린팅하는 EUV 더블 패터닝을 사용해 EUV의 분해능 한계에 대응하는데 이때 마스크 2개가 제작되고 절반으로 분할된 패턴은 모두 층간 패터닝 필름에 결합된 후 웨이퍼에 식각된다. 이러한 더블 패터닝은 소자 밀도 증대 측면에서 효과적이지만 설계와 패터닝을 복잡하게 하고 시간, 에너지, 재료, 물이 소비되는 여러 공정 스텝이 필요해 웨이퍼 팹 및 웨이퍼 생산 비용을 높인다. 이에 어플라이드 머티어리얼즈는 주요 고객사와 협력해 'Centrua Sculpta' 패터닝 시스템을 개발했다. 반도체 제조사는 싱글 EUV 패턴을 프린팅한 다음 Scu
EUV 관련 기술이 중국으로 흘러 들어갔을 가능성 제기돼 ASML은 중국 법인의 전 직원이 제품 관련 기밀 정보를 빼낸 사실을 적발했다고 15일(현지시간) 밝혔다. 블룸버그통신 등에 따르면, ASML은 이날 작년 연간 실적을 발표하는 자리에서 이 같은 사실을 공개한 뒤 내부조사를 진행해왔으며, 보안을 강화했다고 전했다. ASML은 도난당한 데이터에 대한 세부 내용에 대해서는 언급하지 않은 채 이번 사건이 자사 사업에 큰 영향을 주지는 않을 것이라고 밝혔다. 다만 이번 사건으로 중국 관련 수출 통제를 위반해 규제기관의 징계 대상이 될 수도 있다고 덧붙였다. 이 직원은 최첨단 반도체 생산에서 핵심 장비인 ASML의 노광장비 시스템과 관련된 세부 기술적 정보가 저장된 소프트웨어 저장소의 데이터를 훔친 것으로 드러났다고 익명의 소식통이 블룸버그에 밝혔다. 이 데이터는 제품 생애 주기 관리 소프트웨어 '팀센터'에 있던 것이었다고 소식통은 덧붙였다. ASML에 이 프로그램을 공급한 지멘스의 웹사이트에 따르면, 팀센터는 서로 다른 부서의 직원들이 협업과 제품 개발관리 등을 위해 기술 관련 정보를 저장해놓고 공유하는 곳이다. 이번 사건은 중국 남성 직원이 지난 2∼3개월
기공식 위해 피터 베닝크 ASML CEO 방한, 한국에 대한 ASML 기대감 전해 재제조센터와 트레이닝센터, 체험관 조성해 국내 기업과의 협력 확대 및 인재 육성 ASML이 16일인 오늘 경기도 화성에서 반도체 클러스터 뉴 캠퍼스 기공식을 개최했다. 기공식에는 피터 베닝크 ASML CEO, 문동민 산업통상자원부 무역투자실장, 김동연 경기도지사, 정명근 화성시장, 이원욱 국회의원, 수요기업 등 관계자 160여명이 참석해 자리를 빛냈다. 2024년 12월 완공 예정인 뉴 캠퍼스는 ASML이 2400억 원을 직접 투자해 화제가 됐다. 뉴 캠퍼스는 동탄 2신도시 도시지원시설 용지에 걸립되며, 여기에는 심자외선(DUV)·극자외선(EUV) 노광장비와 관련한 부품 등의 재제조센터와 첨단기술을 전수하기 위한 트레이닝 센터, 체험관 등이 들어선다. ASML은 화성 뉴 캠퍼스 조성을 통해 국내 반도체 기업과의 협력이 긴밀해지고, 첨단장비 관련 소재·부품 공급망이 한층 강화될 것으로 전망했다. 뉴 캠퍼스의 외관은 반도체의 직선형 패턴과 동탄호수의 잔잔한 파동에서 영감을 받아 디자인됐으며, 주변 경관과의 조화를 고려해 최대한 자연의 빛과 간접조명을 이용해 설계됐다. 이뿐 아니라
ASML, 글로벌 반도체 시장에서 중국이 차지하는 위상 주시 ASML이 미국의 압박 속에서도 중국 내 인력 확대를 계속 추진하고 있다고 홍콩 사우스차이나모닝포스트(SCMP)가 14일 전했다. 션보 ASML 부회장 겸 중국 총괄은 전날 중국 경제 매체 제몐(界面)신문과 인터뷰에서 중국 시장에서 급속한 성장에 힘입어 현지 직원 수가 2017년 500명 미만에서 지난 8월말 현재 1500여명으로 3배로 뛰었다고 밝혔다. 2000년 중국 지사를 개설한 ASML은 현재 중국에서 12개의 사무실 건물을 소유하고 있으며, 미국과 중국 간 긴장 고조에도 올해 중국에서 신규 직원을 200여명 뽑을 것이라고 블룸버그 통신이 앞서 6월 보도했다. ASML은 세계에서 유일하게 최첨단 극자외선(EUV) 노광장비를 생산하고 있다. 네덜란드 정부는 미국의 압박으로 ASML EUV 노광장비의 중국 수출 승인을 내주지 않고 있는데, 미국은 이런 조치를 구형 심자외선(DUV) 노광장비까지 확대해달라고 네덜란드에 요구하고 있다. 미국 상무부는 또한 자국 내 모든 반도체 장비 업체에 14나노미터 공정보다 미세한 제조기술을 적용한 장비를 중국에 수출하지 말라는 내용의 공문을 보냈다고 블룸버그가
美, ASML에 구형 노광장비까지 中 수출 제한 요청 미국이 네덜란드에 세계적 반도체 제조장비 업체 ASML의 장비에 대한 중국 판매 추가 제한을 요구하고 있다고 블룸버그통신이 이 사안을 잘 아는 소식통의 말을 인용해 5일(현지시간) 보도했다. 블룸버그는 돈 그레이브스 미국 상무부 부장관이 5월 말부터 지난달 초까지 네덜란드를 방문했을 때 ASML이 만드는 구형 심자외선(DUV) 노광장비의 중국 판매 금지를 요청했다고 밝혔다. 앞서 네덜란드 정부는 미국의 압박으로 ASML이 세계에서 유일하게 생산하는 최첨단 극자외선(EUV) 노광장비의 중국 수출 승인을 내주지 않는데, 이런 조치를 구형 노광장비까지 확대해달라는 것이다. 그레이브스 부장관은 당시 네덜란드 펠트호번에 있는 ASML 본사를 방문해 페터르 베닝크 ASML CEO와도 만났다고 블룸버그는 덧붙였다. 미국은 일본에 대해서도 니콘 DUV 노광장비의 중국 판매 금지를 요청하는 것으로 전해졌다. DUV 노광장비는 EUV 같은 최첨단 기술은 아니지만, 자동차나 스마트폰, PC, 로봇 등에 들어가는 반도체를 만드는 데 사용되는 보편적인 기술이다. 블룸버그는 미국의 요청을 네덜란드가 수용하면 중국 최대 파운드리 업
극단의 스펙트럼 영역까지 광학 용도 확장 극자외선(EUV, Extreme ultraviolet)은 X-ray와 deep UV(DUV) 스펙트럼 영역 사이인 대략 10nm - 100nm를 아우르는 파장 대역입니다. 최근에는 리소그래피, 나노스케일 이미징 및 분광법과 같이 극자외선 영역을 다루는 수많은 압착 성형 응용 분야를 위해 콤팩트한 극자외선 소스 개발에 많은 노력이 집중돼 왔습니다. 에드몬드 옵틱스는 이와 같은 노력의 결과 몇몇 유형의 상용화된 EUV 광원을 이용하게 됐습니다. 대다수의 소재가 극자외선에 대한 강력한 흡수력을 갖기에 광학 부품 대부분은 투과성이 아닌 반사성을 띱니다. 따라서 파장이 짧은 극자외선 광학 제품들은 가시광 부품보다 엄격한 표면 품질 요건이 필요합니다. 이처럼 까다로운 요건으로 인해 극자외선 광학 제품의 양산이 쉽지는 않지만, 고해상도 이미징, 분광법 및 소재 가공 용도에서 다양한 이점을 보임에 따라 에드몬드 옵틱스는 극자외선 광학 제품 양산에 더 많은 노력을 기울이고 있습니다. 극자외선 광원 최초의 실용 극자외선 광원은 대형 연구실과 리소그래피 업체에서만 사용할 수 있는 거대 장치의 형태였으나 최근에는 극자외선 기술의 발달로 더
헬로티 서재창 기자 | 삼성전자의 D램 시장 점유율이 올해 3개 분기 연속 늘어난 것으로 나타났다. 올해 호황기를 누린 D램 시장이 4분기부터 가격 하락세와 함께 다운사이클로 전환됐지만, 시장에서는 애초 예상보다 D램 가격 하락 폭이 제한적일 것이라는 긍정적인 전망이 나온다. 21일 시장조사기관 옴디아에 따르면, 삼성전자의 올해 3분기 D램 시장 점유율은 43.9%로 전 세계 1위 자리를 유지했다. 삼성전자의 D램 시장 점유율은 지난해 4분기 41.0%에서 올해 1분기 41.2%, 2분기 43.2%, 3분기 43.9%로 3개 분기 연속 상승세를 보였다. 2위 기업인 SK하이닉스와의 점유율 격차는 지난해 4분기 11.7%포인트(p)에서 올해 1분기 12.4%p, 2분기 15.0%p, 3분기 16.3%p로 꾸준히 확대됐다. 특히 삼성전자의 D램 매출액은 평균판매가격(ASP) 상승과 출하량 증가 영향으로 대폭 늘었다. 삼성전자의 올해 3분기 D램 매출은 115억3000만 달러(약 13조7299억 원)로, 지난해 동기(약 8조5366억 원)보다 60.8% 증가한 것으로 조사됐다. 아울러 삼성전자는 지난 10월부터 업계 최소 선폭인 14나노미터 EUV(극자외선) 공정
헬로티 조상록 기자 | 삼성전자가 EUV(극자외선, Extreme Ultra-Violet) 공정을 적용한 업계 최선단 14나노 D램 양산에 들어갔다. 삼성전자는 2020년 3월 업계 최초로 EUV 공정을 적용한 D램 모듈을 고객사들에게 공급한 바 있으며, 업계에서 유일하게 EUV 멀티레이어 공정을 적용해 최선단 14나노 D램을 구현하는 등 차별화된 공정 기술력을 선보이고 있다. 삼성전자는 반도체 회로를 보다 세밀하게 구현할 수 있는 EUV 노광 기술을 적용해 D램의 성능과 수율을 향상시켜, 14나노 이하 D램 미세 공정 경쟁에서 확고한 우위를 확보해 나갈 계획이다. 5개의 레이어에 EUV 공정이 적용된 삼성전자 14나노 D램은 업계 최고의 웨이퍼 집적도로 이전 세대 대비 생산성이 약 20% 향상됐다. 또한, 삼성전자 14나노 D램 제품의 소비전력은 이전 공정 대비 약 20% 개선됐다. 삼성전자는 이번 신규 공정을 최신 DDR5(Double Data Rate 5) D램에 가장 먼저 적용한다. DDR5는 최고 7.2Gbps의 속도로 DDR4 대비 속도가 2배 이상 빠른 차세대 D램 규격으로 최근 인공지능, 머신러닝 등 데이터를 이용하는 방식이 고도화 되면서 데이