테크노트 인하대 연구팀, 반도체·디스플레이 공정 핵심 소재 기술 제안

차세대 전자 소자 제조 화학 소재의 새로운 가능성 제시 인하대학교는 김명웅 화학·화학공학융합학과 교수, 이진균 고분자공학과 교수 공동연구팀이 새로운 개념의 반도체·디스플레이 생산 공정용 포토레지스트 소재 기술을 제안해 학계 주목을 받고 있다고 5일 밝혔다. 포토레지스트는 전기 회로를 만들 때 밑그림을 완성하는 핵심 과정인 광 리소그래피 공정에서 중요한 역할을 담당하는 핵심적인 화학 소재다. 포토레지스트의 성능은 생산되는 제품의 품질·수율과 깊은 연관이 있기 때문에 고성능 포토레지스트 기술의 중요성, 국산화가 국가 차원에서 강조되고 있다. 공동연구팀은 현재 반도체 산업의 주력 소재인 심자외선·극자외선 포토레지스트의 화학 구조에 변화를 줘 빛에 노출된 영역과 그렇지 않은 영역의 용해성(다른 물질에 녹을 수 있는 성질) 차이를 극대화할 수 있는 새로운 방법론을 제안했다. 반도체나 디스플레이 회로는 매우 작고 정밀한 미세한 선으로 구성돼있다. 이 미세한 선을 만들기 위해선 빛을 쏜 부분만 선택적으로 녹여 없애고 나머지는 남겨야 하는데, 이때 사용하는 게 포토레지스트다. 포토레지스트에서 빛을 받은 부분과 받지 않은 부분의 용해성 차이가 클수록 회로 패턴의 경계가 또렷

• 이창현 기자
• 2025-08-05 10:46