최신뉴스 프랙틸리아, HVM 팹에서 EUV 패턴 제어 최적화한 장비 추가

스토캐스틱 효과를 실시간으로 측정, 감지 및 모니터링 프랙틸리아는 자사의 FAME(Fractilia Automated Measurement Environment, 프랙틸리아 자동화 측정 환경) 포트폴리오에 최신 제품인 FAME 300을 추가한다고 밝혔다. 대량 제조(이하 HVM) 팹 환경에서의 사용을 위해 특별히 설계된 FAME 300은 첨단 노드 공정에서 패터닝 오류의 주된 원인인 스토캐스틱 효과를 실시간으로 측정, 감지 및 모니터링한다. FAME 300을 사용할 경우, 팹에서 스토캐스틱 변이로 인해 발생하는 잠재적 공정 문제를 단 몇 분만에 파악할 수 있어, 신속한 수정 조치를 통해 자사의 패터닝 공정에 대한 제어를 개선하고 수율을 최적화할 수 있다. FAME 300은 프랙틸리아의 FILM(Fractilia Inverse Linescan Model) 특허 기술을 활용한다. 이 기술은 CD(Critical Dimension, 임계 선폭) 측정뿐 아니라 거칠기를 포함한 다양한 스토캐스틱 효과를 고도로 정확하고 정밀하게 측정할 수 있는 유일한 팹 솔루션이다. 프랙틸리아의 제품은 반도체 제조사, 장비 회사 및 반도체 원재료 공급사의 연구 개발 및 공정 개발 환경

• 서재창 기자
• 2023-02-22 10:21