[첨단 헬로티] 표준연, 상호보정법을 이용한 초박막 절대 두께 측정기술 완성 한국표준과학연구원(KRISS, 원장 박상열)이 국내 중소기업 기술로 개발한 첨단 측정장비를 통해 반도체 측정 난제를 푸는 데 성공했다. KRISS 나노구조측정센터 김경중 책임연구원팀은 국산 장비인 중에너지이온산란분광기(MEIS)를 이용, 나노미터(nm)급 산화막의 절대 두께를 측정할 수 있는 상호보정법을 완성했다. 절대 두께(absolute thickness)는 다른 요소에 영향을 받지 않는 실제 두께로 상대 두께와 대조된다. 중소기업 케이맥㈜의 측정장비로 반도체 소자 제작의 측정 난제를 해결한 이번 성과는 수입 의존도가 높은 반도체 장비 시장에서 국산 장비의 우수성을 알리고 보급을 활성화할 것으로 기대된다. 반도체 공정에서 집적회로를 만드는 데 사용하는 웨이퍼는 표면에 얇고 균일한 산화막을 형성하는 것이 매우 중요하다. 산화막은 웨이퍼 표면을 보호함과 동시에 전류의 흐름을 제어하는 역할을 하며, 산화막이 형성된 웨이퍼 위에 반도체 설계 회로가 그려진다. 따라서 산화막의 두께를 유지하고 정확히 측정하는 것은 반도체의 수율을 결정짓는 핵심 요인으로 꼽힌다. 실제로 산화막 문제로 12인
▲NI가 세미콘 2018서 선보이게 될 반도체 테스트 통합 솔루션 [첨단 헬로티] 내쇼날인스트루먼트(이하 NI)가 1월 31일부터 2월 2일까지 코엑스에서 개최되는 세미콘 코리아에 참가해 반도체 테스트 통합 솔루션과 데모를 선보일 예정이다. 한국 NI는 이번 전시에서 반도체 테스트 비용을 절감하고, 테스트 시간을 단축하며, 업계 최고 수준의 측정 정확성을 제공하는 최신 솔루션들을 소개한다. NI의 플랫폼 기반 방식은 특성화에서 양산 테스트에 이르기까지 테스트 전 과정에 걸쳐 전 과정에 걸쳐 고성능과 효율성을 보장하며, 각종 문제점들을 손쉽게 해결해 주는 확장형 솔루션을 제공한다. 이번 전시회에서 소개하는 PMIC(Power Management IC) 테스트 솔루션은 모바일, 웨어러블, IoT 등의 저전력 디바이스를 위한 특성화 테스트를 제공한다. 이 제품은 NI PXI SMU 기반의 자동화 테스트를 통해 효율을 극대화시킬 수 있다. 또한 NI의 대표적 솔루션인 NI STS(Semiconductor Test System)는 반도체 양산 테스트 환경에서 사용하는 소프트웨어 및 하드웨어 통합 플랫폼이다. 1,500개 이상의 모듈형 계측기를 기반으로 유연한 테스트