최신뉴스 한국전기연구원 김두현 박사팀, 임플란트용 전기화학 나노 표면처리 기술 개발

[첨단 헬로티] 표면에 나노미터(nm)급 패턴의 거칠기를 구현해 임플란트를 제조하는 신기술이 국내 연구진에 의해 개발됐다. 한국전기연구원(KERI) 나노융합기술연구센터 김두헌 박사팀은 최근 ‘전기화학 나노 표면처리 기술’을 개발하고, 관련 전문 기업에 기술이전 했다고 밝혔다. 이번 기술은 생체적합도가 높고, 골 유합 속도가 빨라 시술 후 환자의 치유기간을 크게 앞당길 것으로 기대된다. 치과용 임플란트는 대개 티타늄 또는 티타늄합금의 금속 재질로 사용되며, 매끈한 표면이 아닌 거친 표면으로 제조된다. 빠른 골 유합을 유도하여 치료시간을 줄이기 위해서다. 이를 위해 기존에는 주로 샌드블라스팅 과정을 거친 뒤 황산과 염산 같은 강산을 이용한 에칭공정으로 임플란트 표면을 거칠게 만들었다. 이때 거칠기는 마이크로미터 이상 크기의 거칠기만 구현할 수 있다는 한계가 있었다. KERI 연구팀에서는 전기화학적 나노에칭 처리로 임플란트 표면에 나노 패턴의 거칠기를 생성하는 방식으로 생체적합도가 높으면서도 강산을 사용하지 않고, 임플란트 표면에 나노 패턴 형상을 구현할 수 있는 무독성·친환경 임플란트 표면처리 기술을 개발했다. 이 기술이 적용된

• 김동원 기자
• 2018-04-29 15:14