테크노트 [기술특집]PCVD법에 의한 냉간가공용 금형에 대한 고윤활 코팅

[첨단 헬로티] 카와타 카즈키(河田 一喜), 키다치 토루(木立 徹) 오리엔탈엔지니어링(주) 1. 서론 프레스, 단조로 대표되는 냉간가공용 금형에 요구되는 성능으로서는 내마모성, 내스커핑성, 내버닝성 등이 있다. 이들의 요구 성능에 대해 각종 표면처리가 냉간가공용 금형에 적용되고 있다. 그 중에서 TRD(Thermo Reactive Deposition and Diffusion)법, CVD(Chemical Vapor Deposition)법, PVD(Physical Vapor Deposition)법으로 대표되는 세라믹 코팅은 내마모성, 내버닝성이 우수하기 때문에 널리 응용되고 있다. 단 TRD법(TD법)이나 CVD법은 처리 온도가 약 1,000℃로 높기 때문에 금형의 변형, 치수 변화가 생기기 쉽다. 또한 PVD법은 저온 처리이기 때문에 변형, 치수 변화는 적지만, 그 프로세스 원리에서 막의 균일전착성이 나쁘기 때문에 깊은 구멍의 다이나 복잡한 형상의 금형에 대한 적용에는 제한이 있다. 또한 PVD법 중에서도 다용되고 있는 아크법은 매크로파티클(Macroparticles)이나 핀홀(Pits)이 막 표면에 생성되기 때문에 윤활성, 내스커핑성 등에 문제가 있다. 그래

• 서재창 기자
• 2020-02-14 17:41