[첨단 헬로티] '광유도력' 발생원리 학계 논쟁 종지부 찍을 듯 한국표준과학연구원(KRISS, 원장 직무대행 조성재)이 나노물질이 빛과 반응할 때 발생하는 신비한 힘의 원리를 세계 최초로 규명했다. KRISS 나노구조측정센터 이은성 책임연구원팀은 반도체 등 다양한 나노물질이 빛과 상호작용하면서 발생하는 광유도력(photo-induced force)의 물리학적 원리를 밝혀냈다. 발생원리의 불확실성으로 혼란이 있던 광유도력의 응용방향이 명확해짐에 따라, 나노소자의 내부를 파괴 없이 탐침으로 두드려가며 측정하는 광유도력 현미경의 활용이 가속화될 것으로 전망된다. 미세한 물질의 형상이나 특성을 관찰하는 가장 대표적인 장비는 광학현미경이다. 물질에 빛을 쪼이면 발생하는 반사광 또는 투과광을 렌즈로 집속하고 확대시키는 것이 광학현미경의 측정원리다. 하지만 물질의 크기가 나노미터급으로 빛의 파장보다 훨씬 작아지면, 렌즈를 사용하는 광학현미경으로는 회절한계 때문에 제대로 관찰할 수 없다. 최근 기존의 문제점을 극복하기 위한 대안으로 세계의 연구진들이 광유도력 현미경(PiFM; Photo-induced Force Microscope)에 주목하고 있다. 광유도력 현미경은 렌즈
[첨단 헬로티] 표준연, 상호보정법을 이용한 초박막 절대 두께 측정기술 완성 한국표준과학연구원(KRISS, 원장 박상열)이 국내 중소기업 기술로 개발한 첨단 측정장비를 통해 반도체 측정 난제를 푸는 데 성공했다. KRISS 나노구조측정센터 김경중 책임연구원팀은 국산 장비인 중에너지이온산란분광기(MEIS)를 이용, 나노미터(nm)급 산화막의 절대 두께를 측정할 수 있는 상호보정법을 완성했다. 절대 두께(absolute thickness)는 다른 요소에 영향을 받지 않는 실제 두께로 상대 두께와 대조된다. 중소기업 케이맥㈜의 측정장비로 반도체 소자 제작의 측정 난제를 해결한 이번 성과는 수입 의존도가 높은 반도체 장비 시장에서 국산 장비의 우수성을 알리고 보급을 활성화할 것으로 기대된다. 반도체 공정에서 집적회로를 만드는 데 사용하는 웨이퍼는 표면에 얇고 균일한 산화막을 형성하는 것이 매우 중요하다. 산화막은 웨이퍼 표면을 보호함과 동시에 전류의 흐름을 제어하는 역할을 하며, 산화막이 형성된 웨이퍼 위에 반도체 설계 회로가 그려진다. 따라서 산화막의 두께를 유지하고 정확히 측정하는 것은 반도체의 수율을 결정짓는 핵심 요인으로 꼽힌다. 실제로 산화막 문제로 12인
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