최신뉴스 KLA, 자사의 광학 및 전자빔 결함 검사 시스템 발표해

[첨단 헬로티] 패턴 웨이퍼 결함 검사, 리뷰 및 분류에서 KLA 포지션 강화 KLA 코퍼레이션은 지난 11일 D32 및 D8 광학 결함 검사 시스템과 eDR7380™ 전자빔 결함 리뷰 시스템을 발표했다. 신규 검사 시스템은 당사의 주력 제품인 패턴 웨이퍼 플랫폼의 확장으로 광학 검사를 정의하는 요소인 속도와 감도에서 향상을 이뤘다. 신규 전자빔 리뷰 시스템은 결함과 결함 소스 사이의 핵심적인 연결을 찾아내는 역량을 강화했다. ▲KLA의 광학 검사 시스템, 전자빔 리뷰 시스템은 첨단 로직, DRAM, 3D NAND 소자에 대한 핵심적인 결함을 검출한다. KLA 글로벌 제품 그룹 수석 부사장 아마드 칸(Ahmad Khan)은 "차세대 메모리와 로직 반도체 칩 제조에서 수익을 내기 위해서는 선례가 없는 공정 관리가 필요하다"고 말했다. 이어 그는 "디바이스 구조는 더 작아지고, 좁아지며, 높아지고, 깊어진 한층 복잡한 모양과 새로운 물질로 구성된다. 허용 가능한 물리적인 변동과 결함(신호-잡음)을 구분해 내는 것은 어려운 문제가 되고 있다"며, ""KLA의 광학 및 전자빔 엔지니어링 팀들은 반도체 산업의 지속적 발전을 위해 혁신적이고 일관된 결함 검사

• 서재창 기자
• 2019-07-12 17:27