EV 그룹(EV Group, EVG)은 오는 19일부터 21일까지 서울 코엑스에서 개최되는 세미콘 코리아 2025(SEMICON Korea 2025)에서 업계 선도적인 IR LayerRelease 템포러리 본딩 및 디본딩(temporary bonding and debonding, 이하 TB/DB) 솔루션을 비롯한 자사의 혁신적인 웨이퍼 본딩 및 리소그래피 기술들을 선보인다고 밝혔다. EVG는 인공지능(AI) 가속기와 고성능 컴퓨팅(HPC)의 핵심 구성요소인 HBM(high-bandwidth memory) 및 3D DRAM의 개발과 생산을 지원하는 TB/DB 솔루션을 포함해 업계에서 가장 포괄적인 웨이퍼 본딩 솔루션을 제공한다. EVG 아태지역 세일즈 디렉터인 토르스텐 마티아스 박사는 “차세대 HBM 과 3D DRAM의 개발 및 양산을 가속화하는 것은 한국 반도체 업계의 최우선 과제이며 이는 TB/DB기술의 혁신을 필요로 한다”며 “EVG의 IR LayerRelease 기술을 적용하면 더 얇은 두께의 다이를 구현함으로써 HBM을 더 높이 적층할 수 있기 때문에 기계적 디본딩의 필요성을 없애 준다”고 설명했다. 또한 “IR LayerRelease는 실리콘 캐리어
헬로티 서재창 기자 | EV 그룹(이하 EVG)은 자동화된 SmartNIL 나노임프린트 및 웨이퍼 레벨 광학 시스템인 'EVG7300'을 출시한다고 밝혔다. EVG7300은 나노임프린트 리소그래피(NIL), 렌즈 몰딩 및 렌즈 스태킹(UV 본딩) 같은 UV 기반의 여러 프로세스를 단일 플랫폼에 결합한 것이 특징이다. 이 산업용 다기능 시스템은 마이크로 및 나노 패터닝은 물론 기능 레이어 적층 등을 포함하는 광범위한 신규 애플리케이션의 첨단 R&D와 생산 공정 모두에 사용된다. 이러한 애플리케이션의 사례에는 웨이퍼 레벨 광학(WLO), 광학 센서와 프로젝터, 차량용 조명, AR 헤드셋용 웨이브가이드, 바이오 의료 장비, 메타 렌즈와 메타 표면, 광전자 기기 등이 포함된다. 최대 300mm 웨이퍼까지 지원하고 고정밀 얼라인먼트, 향상된 프로세스 제어, 우수한 쓰루풋 성능을 자랑하는 EVG7300은 다양한 자유도와 높은 정밀도로 나노 및 마이크로 광학 부품과 기기를 대량 생산하고자 하는 사용자의 요구를 충족한다. EV 그룹의 토마스 글린스너(Thomas Glinsner) 기술담당 디렉터는 “나노임프린트 기술에 있어 20년 이상의 경험을 보유한 EV 그룹은
[첨단 헬로티] 새로운 HI 역량센터, 이종집적화 및 첨단 패키징 기술 기반 신제품 개발 가속화 EV 그룹(이하 EVG)이 이종집적화 역량 센터(Heterogeneous Integration Competence Center™, HICC)를 설립했다고 18일 밝혔다. EVG는 "HICC는 첨단 시스템 통합 및 패키징 기술 덕분에 새로워지고 향상된 제품과 애플리케이션을 EVG의 공정 솔루션과 전문 지식을 활용하여 구현하고자 하는 고객들을 지원하기 위해 설계됐다. HICC가 지원하는 솔루션과 애플리케이션에는 고성능(HP) 컴퓨팅 및 데이터센터, 사물인터넷(IoT), 자율주행차, 의료 및 웨어러블 기기, 광자 및 첨단 센서 등이 포함된다."고 설명했다. 또한 "HICC는 EVG의 세계적인 웨이퍼 본딩, 얇은 웨이퍼 처리, 리소그래피의 제품 및 전문성뿐 아니라 EVG 전 세계 공정기술팀의 지원을 받는 오스트리아 본사 소재 최첨단 클린룸 시설의 파일럿 라인 생산 시설과 서비스 지원까지 제공한다. HICC를 통해, EVG는 고객이 이종집적화 및 첨단 패키징 기술을 이용해 신기술 개발을 앞당기고 위험을 최소화하며 차별화된 기술과 제품을 개발할 수 있게 할 뿐 아
[헬로티] 웨이퍼 본딩 및 리소그래피 장비 제조업체인 EV 그룹(EVG)은 나노종합기술원(NNFC)과 NNFC에서 분사한 재료 토털솔루션 업체인 나노 이니쉐이티브(NI)와 공동 개발한, 디스플레이를 위한 개선된 투명 나노 구조화 반사-방지 코팅(nanostructured anti-reflective coating) 생산용 공동개발 프로그램(JDP) 결과를 발표했다. 대부분의 고분자 코팅(polymeric coatings) 보다 우수한 97% 이상의 투과율과 표면경도 3H를 제공하는 뛰어난 구조 복제의 반사방지 코팅(nanostructured anti-reflective coating)을 성공적으로 입증했다. 이와 대조적으로, 현재 박막광학 코팅(thin-film coatings) 기술은 92%의 투과율만 제공한다. 이들 3사는 디스플레이 코팅의 상용기술 기준에 최적화 된 NI의 고분자 소재 재료를 이용한 200mm 글래스 웨이퍼에 임프린트(imprint)를 위한 EVG사의 독자 기술인 SmartNIL UV-NIL(nanoimprint lithography) 기술을 적용해 이러한 성과를 달성했다. ▲나노종합기술원 전경. 2015년 11월에 착수된 공동개발프로그
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UPDATE: 2025년 11월 15일 20시 30분
