인피니티시마(Infinitesima)는 ASML을 비롯한 파트너사들과 함께 3년에 걸친 공동 개발 프로젝트에 착수한다고 23일 밝혔다. 이번 프로젝트에서 Metron3D 300mm 인라인 웨이퍼 계측 시스템은 하이브리드 본딩, 고개구율(high-NA) EUV 리소그래피, 그리고 상보성 전계효과 트랜지스터(complementary field-effect transistor, CFET)와 같은 차세대 3D 로직 반도체 구조 등 첨단 애플리케이션을 위한 계측 솔루션을 최적화하고 탐색하는 데 활용될 예정이다. 이 프로젝트는 인피니티시마의 RPM(Rapid Probe Microscope) 기술과 각 파트너사의 전문 역량을 결합해 고속 이미징, 간섭계 수준의 정밀도, 그리고 깊이 있는 3차원(3D) 표면 분석을 가능하게 할 것으로 기대된다. 이를 통해 관련 업계가 고속, 대량 생산 환경에서도 소자 전 구조에 걸쳐 정밀한 3D 계측 데이터를 확보해야 하는 시급한 요구에 대응할 수 있을 것으로 기대된다. 이번 프로젝트의 일환으로, 인피니티시마는 나노일렉트로닉스 및 디지털 기술 분야의 세계적인 연구·혁신 허브인 imec에 장비를 설치할 예정이다. 이렇게 설치된 시스템은 AS
원자현미경(AFM)보다 최대 100배 빠른 계측 속도 구현하는 RPM 탑재 영국의 반도체 계측 기업 인피니티시마(Infinitesima)가 SK하이닉스에 고속 3차원 계측 시스템 ‘Metron3D’를 대량 생산(HVM) 라인에 설치했다. 이 시스템은 서브 나노미터 수준의 정밀도를 바탕으로, 차세대 메모리 디바이스 제조에 필수적인 3D 공정 제어를 제공하는 장비로 평가받고 있다. Metron3D는 단순한 계측 장비를 넘어, 기존 원자현미경(AFM)보다 최대 100배 빠른 계측 속도를 구현하는 인피니티시마 고유의 기술 ‘RPM(Rapid Probe Microscope)’을 기반으로 한다. 특히 완전 자동화된 웨이퍼 핸들링과 데이터 처리 기능을 갖춰 생산 라인에 최적화된 구조를 갖췄다. 이번 도입은 여러 공정 단계에 걸친 성능 평가와 특성화 작업을 거쳐 결정됐다. SK하이닉스 최영현 선임(DMI 담당)은 “차세대 DRAM 공정에서 나노미터 단위의 3차원 구조를 정밀하게 계측하는 것은 고수율 확보에 중요하다”며 “Metron3D는 비용 효율성과 계측 성능을 동시에 갖춘 시스템으로, 대량 생산 라인에서 효과를 입증했다”고 설명했다. 인피니티시마는 차세대 반도체 공정이