탑머티리얼이 미국 콜로라도주 덴버에 위치한 배터리 및 반도체 혁신 기술 선도기업 포지나노에 투자했다고 7일 밝혔다. 탑머티리얼의 이번 투자는 포지나노가 신규로 유치한 4000만 달러(USD) 규모의 투자금 중 일부이며, 이로써 포지나노의 총 누적 투자금은 약 1억4000만 달러를 넘어섰다. 포지나노는 ALD(Atomic Layer Deposition)라는 기술을 보유한 회사다. 이는 양극 활물질 또는 실리콘 음극 활물질에 원자 수준의 표면 코팅을 함으로써 이차전지의 수명과 안전성을 획기적으로 개선시키는 기술이다. 해당 기술은 이차전지 외에도 반도체 웨이퍼, 제약 등 광범위한 분야에 적용 가능한 기술로 알려져 있다. 앞서 포지나노는 GM(제너럴 모터스)의 투자회사인 GM벤처스와 폭스바겐 등으로부터 대규모 투자를 유치했으며, 미국 정부의 보조금을 확정해 노스케롤라이나에 3GWh 규모의 배터리셀 공장을 건설할 계획이다. 이번 투자를 통해 탑머티리얼은 양사간의 협력관계를 구축해 나갈 계획이라고 전했다. 특히 포지나노의 ALD 기술을 현재 탑머티리얼이 개발중인 고전압 미드 니켈계와 망간계 양극재에 적용함으로써 성능을 한층 업그레이드시킬 계획이다. 탑머티리얼은 인산철
탑머티리얼이 ‘리튬 이차전지 양극 활물질 및 그 제조 방법과 관련된 특허’ 등록을 완료했다고 23일 밝혔다. 탑머티리얼이 이번에 특허 출원한 기술은 도펀트(Dopant)를 사용하지 않고 리튬 이차전지의 수명과 출력을 동시에 개선시킬 수 있는 활물질 및 활물질 제조방법이다. 기존 공정과 달리 가격경쟁력이 있고 다중의 카르복실기를 가지고 있는 카르복실산을 확보해 특정 공정 중에 첨가함으로써 양극재의 결정 및 결정립 크기를 증가시키고 이로 인해 리튬인산철(LFP)의 단점인 출력 개선과 안정적인 수명 확보가 가능하다. 특히 해당 기술을 통해 제조한 활물질은 기존에 카본소스로 사용되는 글루코오스 또는 수크로오스와 도펀트로 사용되는 전이금속계열의 첨가제를 한번에 대체할 수 있어, 구조 안정화와 전도도를 높임과 동시에 비용절감 및 공정단축의 효과까지 얻을 수 있다고 회사 측은 설명했다. 탑머티리얼 관계자는 “본 특허는 리튬 이차전지의 핵심 요소인 양극 활물질의 구조를 혁신적으로 개선해 전지의 효율성을 극대화 하는 기술”이라며 “해당 특허를 바탕으로 양극 활물질 개발에 성공해 파일럿 테스트를 진행하고 있고 이차전지 완전셀(Full Cell)에서 긍정적인 결과를 확보했다”고
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