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ZEISS, 2월 23일 저전압 이미징 비전 검사 방법 웨비나 진행

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[무료 등록] 최신 AI MCU 개발 트렌드와 함께 실제 산업 현장에서의 응용 방법을 소개합니다 (5/14, 코트야드 판교호텔 8층)

 

ZEISS Korea가 2월 23일 Low-kV imaging 웨비나 저전압 이미징 솔루션 ZEISS GeminiSEM을 진행한다. 

 

비전 검사에서 가장 중요한 것은 결함이나 손상을 정확하고 빠르게 감지하는 것이다. 저전압 이미징은 더 높은 감도, 더 낮은 노이즈를 제공하기 때문에 비전 검사에 효과적이다. 이런 장점으로 저전압 이미징은 반도체 제조, 자동차 제조, 제조 공정 등에 쓰이면서 품질 관리 및 생산성 향상에 기여하고 있다. 

 

이번 웨비나에서는 ZEISS Gemini 3 column의 Beam booster와 Nano-twin 렌즈가 어떻게 시너지를 발휘하여 저전압 및 초저전압 조건에서도 sub-nm 분해능을 갖는지 소개한다. 

 

ZEISS Korea 관계자는 "비전도성 시료를 전도성 코팅 없이 샘플 표면 그대로의 형태를 분석하고 싶은 경우, 스테이지 바이어스나 이멀전 렌즈로 인해 stage tilting이나 working distance의 제약이 생긴 경우 특히 도움이 될 것"이라고 밝혔다. 

 

2월 23일 오후 2시부터 3시까지 진행하는 이번 웨비나는 두비즈 홈페이지(https://dubiz.co.kr/Event/219)에서 사전등록을 통해 참여할 수 있다. 

헬로티 함수미 기자 |










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