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[인터뷰] 오로스테크놀로지, 반도체 계측장비 경쟁력 위한 개발 동력 ‘이상 무’

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[무료 등록] 최신 AI MCU 개발 트렌드와 함께 실제 산업 현장에서의 응용 방법을 소개합니다 (5/14, 코트야드 판교호텔 8층)

헬로티 서재창 기자 |

 

 

오버레이 계측장비는 반도체 제조 공정에서 웨이퍼 표면에 여러 회로패턴 적층 시 회로 패턴간의 수직방향 정렬도를 제어하는 장비다. 반도체 제조 공정이 점차 미세화하면서, 반도체 정밀도는 수율에 직접적인 영향을 주는 요인이 됐다. 이에 오로스테크놀로지는 오버레이 계측장비를 국산화한 기업으로, 국내뿐 아니라 세계 시장에서 점유율을 높여가고 있어 주목된다. 


Q : 오로스테크놀로지에 대한 소개를 부탁한다. 

 

A : 오로스테크놀로지는 반도체 전 공정 계측장비 전문 업체로서 해외업체가 장악하고 있는 오버레이 계측장비 부분에서 유일하게 국산화 및 양산에 성공한 장비 기업이다.

 

지난 2011년에는 국내 최초로 12인치 오버레이 계측장비의 자체 개발에 성공한 이래로, 최근 5세대 장비까지 개발했다. 이외에도 소부장 강소기업100 선정, 세계일류상품 인증, 국무총리상 수상 등 정부 인증을 받은 기술력을 갖췄으며 60여개의 기술특허를 보유하고 있다. 

 

Q : 지난 상반기 당사가 주력해온 사업 및 성과가 궁금하다. 

 

A : 당사의 OL-900n 12인치 5세대 오버레이 장비를 2020년 말 양산 개시 후 고객사의 신규 메모리 FAB에 공급했다. 동 장비는 EUV FAB에도 공급됐으며 경쟁사 장비 대비 향상된 성능을 발휘해 양산 적용 중이다. 

 

이뿐 아니라 한국나노기술원, 나노종합기술원에서 진행한 시스템반도체 개발용 제조 플랫폼 구축사업에도 국내 최초 8인치 오버레이 계측장비를 공급했다. 당사는 고객 다변화의 일환으로 세계 시장 확대 거점 확보를 위해 중화 CS 오피스를 중화법인으로 확대시켰고, 실리콘밸리에 미국법인을 설립했다.  

 

Q : 상반기 실적을 견인한 매출 요인은 무엇이었나?

 

A : 작년부터 고객사와 진행한 최신 OL-900n 모델의 공동개발이 지난해 말에 완료돼 올해에는 고객사의 장비 투자 시점에 최신장비를 납품하며 고객 공정에 기여할 수 있었다. 

 

Q : OL-100n 오버레이 측정 장비 출시 당시 많은 주목을 받았다. 기존 장비와 비교했을 때 우위를 갖는 부분은 무엇인가?

 

A : OL-100n 장비는 6인치·8인치 오버레이 측정 장비로 12인치 측정 기술을 기반으로 자체적으로 개발한 장비다. 지난 2017년에 개발 및 출시돼 2018년에는 대만 및 국내 파운드리 기업에 납품해 양산 적용 중이다. 8인치 이하 오버레이 장비는 레거시 프로세스에 적용되기에 신규 개발 모델보다 10여 년 전 기술 그대로의 중고장비가 시장에서 운용되고 있었다. 

 

최근에는 화합물반도체의 폭발적 증가와 공정의 발전으로 인해 새로운 기술의 장비가 주목받을 수밖에 없다. 이에 당사는 새로운 모델로서 기존 중고 장비 대비 뛰어난 성능과 빠른 측정 속도를 갖췄으며 동일 장비로 오버레이와 CD 계측까지 가능해 활용도 측면에서도 높은 평가를 받고 있다. 

 

 

Q : 장비 효율 개선에 대한 R&D는 어떻게 진행되는지 궁금하다. 

 

A : 당사는 전체 인원의 약 40%가 R&D 파트로 구성돼 있다. 자체 R&D 센터에서 개발을 총괄하고 있으며, 고객사의 VoC에 CS 엔지니어부터 개발 엔지니어까지 체계적인 대응과 개발 계획을 갖춰 대응하고 있다. 

 

Q : 외산 장비와의 경쟁이 불가피한 시장이다. 시장 점유율을 높이기 위한 당사만의 비즈니스 전략이 알고 싶다. 

 

A : 오버레이란, 반도체 제조 공정상의 회로 패턴들의 적층 과정에서 이전 공정에서 제작된 회로 패턴과 현재 공정에서 제작된 회로 패턴 간의 수직 방향 정렬도 및 정렬도의 제어를 의미한다.

 

제작하려는 회로 선폭이 작아질수록 수직 정렬도 역시 미세하고 정밀하게 계측·관리하는 기술이 필요하기에 패턴 미세화 기술 개발과 함께 수직정렬도 계측 기술도 병행 개발돼야 한다. 이러한 이유로, 소자기업 공정기술과 장비기업 계측기술의 공동개발은 필수적이다. 

 

당사는 고객사와 기술혁신기업으로 맺은 인연으로 개별 모델 개발마다 꾸준히 공동개발 프로젝트를 진행하며 맞춤형 장비를 개발하고 있다. 이 장비는 후발주자인 대만, 중국 기업에서도 어필 포인트가 될 수 있으며 선두업체의 긍정적인 평가 결과는 당사 장비 선택에 중요한 요소로 작용된다. 

 

Q : 오로스테크놀로지의 하반기 계획 및 중장기적 목표가 있다면?

 

A : 올해 말 동탄테크노밸리에 위치한 신 공장에 입주할 예정이다. 이 공장에는 약 200평 규모의 클린룸이 구축된다. 이곳에서 초정밀 박막 계측장비 개발을 위한 연구를 진행한다. 박막 계측장비는 반도체 제조 공정에서 웨이퍼 위에 증착된 박막의 두께가 균일한 지 측정하는 장비다. 당사는 제품군 다양화의 일환으로 신규 장비 개발을 진행하고 있다. 

 

오버레이 계측장비를 주력 사업으로 영위하는 당사는 현재 검사장비, 박막 계측장비 등으로도 사업을 확장하고 있다. 특히 박막 계측장비의 경우 식각, 증착, 평탄화 등 다양한 공정에 적용할 수 있다는 점에서 유망한 시장으로 꼽힌다. 내년 말까지 제품 개발을 완료해 회사의 중장기 성장 동력으로 삼도록 할 계획이다. 










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